图片来源：摄图网
光刻机是半导体制造中至关重要的设备，用于制造集成电路。目前，光刻机市场正呈现出稳步增长的态势。随着5G、人工智能、物联网等新兴技术的不断发展，对芯片的需求不断增加，推动了光刻机市场的发展。同时，新一代芯片制造工艺的推出，也要求光刻机具有更高的分辨率、更快的速度和更大的制造尺寸。因此，光刻机制造商在不断进行技术创新，推出更加先进的产品来满足市场需求。
据业界信息，High NA EUV技术是EUV技术的进一步发展。NA代表数值孔径，表示光学系统收集和聚焦光线的能力。数值越高，聚光能力越好。荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)的High NA EUV设备是芯片制造商制造2nm工艺节点芯片的必备设备，每台设备的成本超过5000亿韩元。目前，ASML的High NA EUV光刻机仅有两台，如此限量版的EUV关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求，为此ASML布局步伐又迈一步。
ASML首席财务官Roger Dassen在近期一次电话会议上透露，台积电和英特尔这两个公司最大客户将获得高数值孔径极紫外(EUV)光刻机，将于年底前交付。
英特尔已率先订购并接收了全球首台High NA EUV光刻机，该设备已于2023年12月底运抵英特尔位于俄勒冈州的芯片制造工厂。至于台积电，目前尚未明确其接收设备的具体时间，但该公司代表表示，他们正与半导体设备供应商紧密合作，以确保计划的顺利进行。
据悉，ASML的这种光刻机造价3.5亿欧元(约合3.8亿美元)，相当于两架空中客车A320飞机的重量。阿斯麦是全世界唯一一家使用极紫外技术的光刻机制造商，对其产品的需求是该行业发展轨迹的试金石。
受此影响，ASML股价周三上涨8.1%，市值达到3770亿欧元(约合4100亿美元)，首次超过法国奢侈品巨头路威酩轩集团，成为欧洲第二大上市公司。
近期也是台积电换帅期，6月4日，台积电在股东大会上宣布，总裁魏哲家正式接替刘德音担任公司董事长一职。这意味着，魏哲家成为台积电多年来首位同时担任董事长和CEO职务的人。自此，台积电正式进入由魏哲家全面掌舵时代。
谈到台积电竞争与前景，魏哲家直言，台积电技术领先同业，占据有利位置，到目前没有人可以竞争，会继续保持优势，持续进步技术，永远不会停下来。
回看光刻机行业发展情况：
——光刻机是芯片制造、高端光刻胶研发的重要装备
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，也是光刻胶材料研发的重要设备，根据晶瑞电材的集成电路制造用高端光刻胶研发项目信息，设备及安装费占总投资额的69%，而光刻机就占设备及安装费的44%。
——全球光刻机销量情况
目前，全球光刻机市场的集中度极高，前三大厂商的市场份额占比达90%以上。数据显示，2015-2020年，全球光刻机销售量总体增长，2020年达413台，同比增长16.7%。
——荷兰ASML公司占全球光刻机龙头地位
从TOP3企业的竞争格局来看，2020年，荷兰ASML公司占比63%，出货量达到258台，力压尼康和佳能：
——EUV光刻机单台价值高达1.5亿欧元
由于EUV光刻机的高技术壁垒，也造就了其高价值特征。当前，全球仅有荷兰的ASML公司有能力生产EUV光刻机。
根据该公司的EUV光刻机售价显示，2018年以来，该公司的EUV光刻机价格也不断上扬，2021年7月4日，约为1.54亿欧元/台，折合人民币11.7亿元(以1欧元兑7.6元人民币换算)。
经济学人APP资讯组
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